膨脹法真空裝置

本真空標準裝置主要用于( 1.3×105 ～ 1.3×10-1 ) Pa范圍內(nèi)電容薄膜真空計，熱偶真空計等的檢定/校準工作，主要具有以下特點： 1.1兼顧比較法和膨脹法兩種裝置，便于客戶靈活靈活掌握和保證設備可以長期使用； 1.2膨脹法裝置部分選取所有儀器和設備均可以提供長期質(zhì)保。比較法用標準器電容薄膜規(guī)有原廠提供質(zhì)保。 1.3采用專用軟件進行數(shù)據(jù)采集及處理，工作效率高； 1.4系統(tǒng)軟件終身免費升級，裝置總體水平達到國內(nèi)先進水平。

關鍵詞：標準漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規(guī)真空計 | 高低真空校準裝置 | 氦漏孔校準裝置

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一概述
本真空標準裝置主要用于( 1.3×105 ～ 1.3×10-1 ) Pa范圍內(nèi)電容薄膜真空計，熱偶真空計等的檢定/校準工作，主要具有以下特點：
1.1兼顧比較法和膨脹法兩種裝置，便于客戶靈活靈活掌握和保證設備可以長期使用；
1.2膨脹法裝置部分選取所有儀器和設備均可以提供長期質(zhì)保。比較法用標準器電容薄膜規(guī)有原廠提供質(zhì)保。
1.3采用專用軟件進行數(shù)據(jù)采集及處理，工作效率高；
1.4系統(tǒng)軟件終身免費升級，裝置總體水平達到國內(nèi)先進水平。

二主要技術指標
2.1 設備組成：膨脹系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、前級壓力測量系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。
2.2 技術原理：靜態(tài)比較法，一級膨脹；
2.3 測量范圍：(1.3×105～1.332×10 ) Pa；
2.4 極限真空度：≤1×10-4Pa；
2.5 不確定度技術要求：：
（1.332×105～1.332Pa×103）Pa          U≤0.08 % k=2 靜態(tài)比對法；
（1.332×103～13.32Pa）       U≤0.2% k=2   一級膨脹；
（13.32×10～1.332Pa）        U≤0.5% k=2   一級膨脹；
（1.332×10～0.1332Pa）        U≤1% k=2   一級膨脹

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